와다 노부유키 Murata 1. 들어가는 말 휴대전화를 필두로 한 전자기기의 소형화에 따라 수동부품에도 소형, 고성능화가 요구되고 있다. 그림 1에 나타낸 적층 세라믹 콘덴서도 마찬가지다. 세라믹 콘덴서의 소형, 고성능화를 위해서는 전체 층의 박층화 및 고적층화가 필수다. 현재 1.0um 두께의 유전체를 600층 가까이 적층한 적층 세라믹 콘덴서가 개발되고 있다. 적층 세라믹 콘덴서는 BaTiO3 유전체 분말을 분산시킨 slurry를 sheet로 성형하고, 이 위에 내부 전극인 Ni 전극을 screen 인쇄, 이것을 적층, 소성하여 제조된다. 유전체 두께를 1.0um로 박층화하기 위해, 유전체 원료 입경은 가능한 작게 하여, 유전체 한층 당 일정 개수 이상의 입자가 들어가도록 해야 한다. 이 때 미립의 ..

기시 히로시 Taiyo Yuden 1. 서론 최근 휴대전화, 노트북 PC등으로 대표되는 디지털 전자기기의 소형화, 고성능화는 매우 놀라울 정도의 진전을 보이고 있다. 이를 뒷받침하는 기간부품으로 적층 세라믹 콘덴서의 소형화, 고용량화도 매우 정력적으로 진행되어 왔다. 그림 1에 세라믹콘덴서의 단위체적당 정전용량의 변화 추이를 나타내었다. 지난 35년간 체적용량 증가율은 1000배에 달하며, 특히 Ni 전극 세라믹 콘덴서 기술의 발전에 따라 최근 10년간 약 100배의 비약적인 소형 고용량화가 진전되었다. 최근 10년간 유전체 층 두께는 10um에서 1um정도까지 박층화되었고, 적층수가 800층 이상인 것도 실용화되었다. 전자 기기의 소형화, 고기능화의 멈추지 않는 흐름은 더욱더 적층 세라믹 콘덴서의 소형..

1. 콘덴서의 종류와 특징 콘덴서의 종류는 크게 나누어 固定 콘덴서와 可變 콘덴서가 있으며, 또한 誘電体와 電極의 종류에 따라 알루미늄 電解 콘덴서, 탄탈 電解 콘덴서, 磁器 (세라믹) 콘덴서, 필름 콘덴서 등으로 분류된다. JISC5101에 따른 콘덴서의 종류를 표1에 나타내었다. 또 素子의 構成방식의 차이에 따라 분류하는 경우에는 권회형 (卷回形), 積層形, 電解形으로 나눌 수 있다. 이와 같은 분류에 따른 콘덴서의 분류는 표 2에 나타내었다. 세라믹 콘덴서의 특징은 고주파 특성이 좋고 열에 강하며, 각종 온도 특성을 비교적 쉽게 구현할 수 있다는 점이다. 또 無極性인 것도 基板 裝着에는 유리하다. 알루미늄 전해 콘덴서는 저가격, 고용량이 특징이며, 결점으로서는 高周波帶域에서의 임피던스가 높고 형상이..

서론 최근, 전자기기의 소형 경량화에 따라, 면 실장기판이 증가하고, 여기에 실장되어진 칩 부품의 소형, 박형화가 요구되어지고 있다. 전자부품의 하나인 콘덴서는 아날로그, 디지탈, 전자회로에 대량으로, 다종류, 다용도로 이용되고 있다. 적층 세라믹 콘덴서는 면 실장 가능한 칩 부품의 콘덴서로서 세라믹 재료개발이 진행되어 우수한 고주파 특성과 고 신뢰성 등의 특징에 의해, 휴대기기를 중심으로 사용되게 되었다. 그리고 전극재료의 니켈화, 전극 적층기술의 진보에 의해, 다층화, 저 cost화가 진행되어, 콘덴서용량의 대용량화가 가능하게 되었다. 이 때문에 적층 세라믹 콘덴서의 취득 용량의 범위는 탄탈, 알루미늄 전해콘덴서의 용량영역까지 도달하여, 이들의 콘덴서를 치환할 수 있게 되었다. 적층 세라믹 콘덴서는 ..

서론 Ni 전극 적층 콘덴서의 신뢰성의 비약적인 향상을 가져온 희토류 원소의 첨가효과를 명확히 하는 것은, 앞으로 계속되어지는 박층화, 고용량화 를 진전시키는데 매우 중요한 일이다. 본 절에서는 희토류 원소의 BaTiO3중으로의 고용상태와 내환원성 유전체재료의 전기적 특성, 미세구조와의 관련성에 대해 설명하겠다. 1.희토류 원소의 이온반경과 고온 가속수명 고전계 하에서 유전체의 절연열화는 첨가 성분의 donor/acceptor 비나 BaTiO3의 A/B ratio에 크게 의존한다고 알려져 있다. 희토류 원소의 이온반경은 표 1에 나타내었듯이 Ba와 Ti 의 중간 크기이며 A/B 양 site에 고용된다. 즉, 희토류 원소는 다음 식으로 표시되듯이, A site에 고용되는 경우 donor로 작용하고 B si..

Kawatetsu Narita 제 2절 기상법(CVD법) 1.원리와 특징 기상법은 기체원료로부터 화학반응을 통해 박막이나 입자등의 고체제료를 합성하는 기상화학반응프로세스이다. Chemical Vapor Deposition을 간략하여 CVD법으로 부른다. 동일한 목적의 재료 프로세스는 고체를 전기적 가열등으로 증발시켜 박막이나 입자를 합성하는 물리적 프로세스를 증착법, Physical Vapor Deposition PVD법이라고 부르며 CVD법과 구별하고 있다. CVD법에서는 금속원자를 충분한 증기압을 가진 기체 원료로 하기 위해서 할로겐화물이나 아르코긴도를 원료로 이용하는 것이 많으며 그 화학반응에서 발생되는 열을 이용하는 열 CVD법이 가장 일반적이다. 한편 저온화 선택성 제어성등을 개선하고 열 이외의..