Journal of the Korean Ceramic Society Vol. 46, No. 2, pp. 137~145, 2009. 이종호†·허강헌·이정수 1. 서론 최종 세라믹 제품의 성능은 중간 제조 과정에도 영향을 받지만, 특히 출발 물질인 세라믹 분말의 선택에 의해 좌우된다고 해도 과언이 아닐 만큼 세라믹 분말의 성질은 매우 중요하다. 더욱이, 최근 칩부품의 소형화, 고기능화 요구에 의한 박층화 및 고적층화가 필요하게 됨에 따라 더욱 작은 입자크기를 갖는 모재 분말이 요구되고 있다.1) 이와 같은 경향은 적층형 세라믹 콘덴서(MLCC)의 경우도 마찬가지로 적용되는데, 유전층에 사용되는 모재의 입자가 작아질수록 유전율이 감소되고, core-shell을 구현하기 위한 첨가상들도 함께 미립화되어야 하기 ..

Journal of the Korean Ceramic Society Vol. 46, No. 2, pp. 146 ~154, 2009. 손성범†·김효섭·송순모·김영태·허강헌 1. 서론 최근 전기/전자 제품의 소형화, 경량화 및 다기능화가 급속히 진행되면서 이에 사용되는 적층 세라믹 커패시터(Multi Layer Ceramic capacitor; MLCC)도 급격하게 소형, 고용량화 되어가고 있다. 이에 따라 적층 세라믹 커패시터에 사용되는 유전체층은 점차 박층, 고적층화 되고 있다. 최근에는 1005 size의 초고용량(4.7 μF 이상) MLCC 개발을 위해 1.5 μm 이하 두께의 BaTiO3 유전체층을 300층 이상 적층함으로써 용량 구현을 시도하고 있으며, 보다 소형의 초고용량 특성을 얻기 위해서는 ..

日 時 ： 2017 年 9 月 9 日（土） 15:00～17:00 和田 信之 和田技術士事務所 技術士（化学部門） 元 株式会社 村田製作所 1. 적층 세라믹 콘덴서(MLCC: Multi-Layer Ceramic Capacitor)의 개요 1) 콘덴서에 대해서 대표적 콘덴서로는 ①알루미늄 전해 ②탄탈전해 ③적층 세라믹스가 있으며 ① ②는 각각의 금속산화막(비유전율:8~30)을 유전체로 하고 전해액을 이용합니다.③은 금속산화물(ex. BaTiO3의 비유전율: 3000 이상)을 세라믹 유전체로 사용한 전고체 콘덴서다. 2) MLCC 에 대해서 MLCC는 얇은 층 성형한 생세라믹 시트 표면에 내부 전극 페이스트를 패턴인쇄하여 다층 적층화하고 이를 소성한 것입니다. MLCC는 핸드폰으로 700개 정도, 노트북으로 800..

1.연구 시작 당초 배경 티탄산바륨(BaTiO3) 미립자는 적층 세라믹스 콘덴서(MLCC)의 주요 원료로서 현재 대량으로 사용되고 있다. 최근 MLCC의 소형·고용량화의 요청에 의해 MLCC를 구성하는 유전체층은 급속히 박층화하고, 원료 분체도 수십~수백 나노미터의 미립자가 사용되게 되었다. 그러나 BaTiO3의 유전율은 입자 크기, 결함, 화학 조성 등에 의해 영향을 받는 것으로 알려져 있다. 이러한 현상은 산업상 매우 중요하며 오래전인가. 경험적으로 알려져 있었음에도 불구하고, 과학적으로 애매하고 해명에 이르지 못했다. 최근 저자들은 불순물이나 결함 농도가 극히 낮은 BaTiO3 나노 입자의 합성에 성공하고, BaTiO3 나노 입자에 있어서의 유전율의 입자 사이즈 의존성이 처음으로 밝혀냈다. 또한, ..

1차년도 기술개발 목표 기술개발내용 가. Nano size Ni powder 합성 기술 개발 1) 플라즈마법을 통한 Nano size Ni powder 합성 및 powder 특성 평가 그림 8.과 그림 9.는 RF 방식의 thermal source를 사용하는 플라즈마 Nano 합성 장치 및 모식도이다. DC플라즈마 방식으로 Ni Nano powder를 합성하기 위해서는 니켈을 전극으로 이용하여 발생하는 플라즈마를 Ni vapor 형성의 thermal source로 사용하지만 RF방식에서는 전극이 없이 반응기 외부 코일에 높은 전기장을 걸어 플라즈마를 발생시키며 Ni source는 carrier gas를 통하여 플라즈마 설비로 투입된다. DC 플라즈마 설비와 마찬가지로 10,000℃ 이상의 매우 높은 반응..

제 3장 사업성과 제 1절 기술적 성과 1. Ni Powder 나노 합성 및 특성 평가 그림 4는 RF방식의 thermal source를 사용하는 플라즈마 nano합성 장치 및 방법을 모식도로 나타낸 것이다. DC 플라즈마 방식으로 Ni Nano powder를 합성하기 위해서는 니켈을 전극으로 이용하여 발생하는 플라즈마를 Ni vapor형성의 thermal source로 사용하지만 RF방식에서는 전극이 없이 반응기 외부 코일에 높은 전기장을 걸어 플라즈마를 발생시키며 Ni source는 carrier gas를 통하여 플라즈마 설비로 투입된다. DC 플라즈마 설비와 마찬가지로 10,000°C이상의 매우 높은 반응온도설비도 가능하기 때문에 사용 원료의 제약이 없으며 금속 Ni이 아닌 니켈염 slurry나 N..