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(Nickel paste) 니켈 입자와의 균일 혼합 기술의 개발

CeraMing 2021. 7. 24. 16:57

 

제3장 내부전극재료 니켈 입자와의 균일 혼합 기술의 개발(Ni 입자 표면에 대한 공재의 표면처리)

 

3-1 니켈 입자의 분산 기술 확립

1. 니켈입자의 평가

100nm 이하의 니켈 입자는 작성법이 다른 2개사로부터 공급 가능하였다.두 회사의 니켈 입자의 DBET(비 표면적 지름)는 80nm로 동일하나 T 사의 경우 입경 편차가 크고, 대형 입자가 존재해 전극층의 얇은 층화에 악영향을 미칠 우려가 있어 본 개발에서는 S사제의 니켈 분말을 사용한다.

 

S사의 니켈입자는 제조공정 및 유기용매 중에서의 분산성 향상을 위해 지방족 아민의 하나인 메틸아민(CH3NH3)으로 표면이 처리되어 있다.열분석장치(TG-DTA)에서의 메틸아민 정량결과는 니켈에 대해 약 2 중량 %였다.

 

 

2016년도 전략적 기반기술 고도화 연계 지원사업(전략적 기반기술 고도화 지원사업)
"적층 세라믹 콘덴서의 고용량화를 실현하는 내부 전극용 재료 제조기술 개발"

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