1. 서론 최근의 MLCC의 소형·고용량화에 수반해, 유전체 세라믹층이나 내부 전극층에는 박층화가 강하게 요구되고 있다. 또한 고용량화에 따라 MLCC의 적용 범위도 넓어지고, 높은 내압성을 필요로 하는 전원회로 등의 부품에 탑재도 진행되어 신뢰성에 대한 요망도 증가하고 있다. 이러한 요구를 충족시키기 위해 내부전극의 주재료인 Ni분말의 특성에는 1) 목표전극 두께에 적합한 미세한 분말 2) 인쇄 특성 만족을 위한 분산성이 우수한 입자 설계 3) MLCC 소성 프로세스에 적절한 전극 소결을 얻을 수 있는 표면 설계 이 요구된다. 아울러 MLCC 시장의 확대를 견딜 수 있는 양산비용이 전제되는 것은 말할 필요도 없다. 수요 확대에 의해 Ni메탈 사용량이 연간 1000ton 초과 MLCC 시장에서 특성과 양..

제2장 MLCC의 구조 및 재료 제3절 내부전극용 Ni분말의 제조법 제1항CVD법 JFE미네랄 주식회사 Saito 1. CVD법에 의한 초미분제조의 개요 MLCC의 내부전극에 이용되는 Ni 초미분의 공업적 제조방법은 액상법과 기상법의 2가지로 대별된다. 기상법은 나아가 물리적 방법(PVD법: Physical Vapor Deposition)과 화학적 방법(CVD법: Chemmical Vapor Deposition)으로 분류된다. PVD법은 금속 증발·응축을 이용하는 방법이고, CVD법은 화학 반응을 이용하여 발생시킨 Ni 가스의 응축을 이용하는 방법이다. 일반적으로 CVD법은 기상의 화학반응을 이용한 고체표면상에서의 박막성장 등에 이용되는 경우가 많은데, 본 항에서의 CVD법은 기상중에서 입자를 석출·성장..

Yong-Su Jo, Hui-Jung Lee, Hye-Min Park, Tae-Wook Na, Jin-Seung Jung, Seok-Hong Min, Young Keun Kim, and Seung-Min Yang* 서론 니켈(Ni) 나노입자는 전극, 촉매, 배터리, 슈퍼커패시터 등 다양한 응용 분야에 널리 사용되어 왔다. 보다 구체적으로 말하면, 세라믹 커패시터(MLCC)의 다층 전극 재료로 광범위하게 사용되어 왔습니다. 습식 화학합성 및 증기상 합성(VPS)을 포함한 다양한 방법이 Ni NP를 생성하는데 사용되어 왔다. 분무열분해, 물리증기합성, 화학증기합성(CVS) 등 VPS가 제조한 제품은 순도와 결정성이 높아 MLCC 전극에 선호된다. VPS 중 응집체의 형성은 높은 공정 온도와 계면활성제의 부재..