(Nickel paste)초고적층 MLCC용 Nano-Layer 내부전극 paste 개발
1차년도 기술개발 목표 기술개발내용 가. Nano size Ni powder 합성 기술 개발 1) 플라즈마법을 통한 Nano size Ni powder 합성 및 powder 특성 평가 그림 8.과 그림 9.는 RF 방식의 thermal source를 사용하는 플라즈마 Nano 합성 장치 및 모식도이다. DC플라즈마 방식으로 Ni Nano powder를 합성하기 위해서는 니켈을 전극으로 이용하여 발생하는 플라즈마를 Ni vapor 형성의 thermal source로 사용하지만 RF방식에서는 전극이 없이 반응기 외부 코일에 높은 전기장을 걸어 플라즈마를 발생시키며 Ni source는 carrier gas를 통하여 플라즈마 설비로 투입된다. DC 플라즈마 설비와 마찬가지로 10,000℃ 이상의 매우 높은 반응..
2021.07.24